Pós de Hastelloy
Shanghai Truer Technology Co,.LTD
Pós de Hastelloy
Mais verdadeiro oferece vários pós de ligas de Hastelloy diferentes, incluindo, entre outros, os pós C-22, C-276, B, N e X. São pós de liga à base de níquel com melhor resistência à corrosão e a altas temperaturas do que os aços inoxidáveis, usados em processos de manufatura aditiva (impressão 3D, SLM/EBM/DLD), spray térmico, revestimento e metalurgia do pó.
Hastelloy C-22 (UNS N06022) e C-276 são usados em ambientes de corrosão severa na indústria de processamento químico e em campos de petróleo e gás.
Hastelloy X (UNS N06002) é uma das superligas de níquel originais com excelente capacidade de fabricação e soldabilidade, usada em peças de metal sinterizado e aplicações de revestimento.
Hastelloy B são ligas à base de níquel-molibdênio e usadas em ambientes extremamente redutores e ácidos, como em filtros de metal sinterizado.
Hastelloy N (UNS N10003) é uma liga à base de níquel que tem boa resistência à oxidação de sais de flúor quentes na faixa de temperatura de 704 a 871°C. Tem boa soldabilidade e pode ser prontamente forjada.
| COMPOSIÇÃO QUÍMICA (wt%) | ||||||||
| Item | Ni | Cr | Mo | Fe | C | Co | V | C |
| Hastelloy C-22 | Bal | 20.0-22.0 | 12.5-14.5 | 2.0-6.0 | 2.5-3.5 | / | / | 0,08 máximo |
| Hastelloy C-276 | Bal | 15.0-17.0 | 15.0-17.0 | 4.0-7.0 | 3.0-4.5 | / | 0.1-0.3 | 0,01 máximo |
| Hastelloy X | Bal | 20.5-23.0 | 8.0-10.0 | 17.0-20.0 | 0.2-1.0 | 0.5-2.5 | / | 0.05-0.15 |
| Hastelloy B | Bal | 1,0 máximo | 26.0-30.0 | 2,0 máximo | / | / | / | 0,02 máximo |
| Hastelloy N | Bal | 6.0-8.0 | 15.0-18.0 | 5,0 máximo | / | / | / | 0.04-0.08 |
Distribuição de tamanho de partícula (PSD): 0-25, 15-45, 15-53, 45-105, 45-150um ou peneirado conforme necessário.
Forma: Esférico
Processo: Atomizado a gás (GA) ou pó de eletrodo rotativo a plasma (PREP)
Embalagem: 5 kg, 10 kg, 25 kg ou conforme necessário; garrafa/lata de plástico.
AplicativoProcessos de manufatura aditiva (impressão 3D, SLM/EBM/DLD), spray térmico, revestimento e metalurgia do pó.
Morfologia do pó de Hastelloy X:
GA
