Hafnium-Pulver
Shanghai Truer Technology Co,.LTD
Hafnium-Pulver
Hafnium-Pulver kann im Bereich der Pulvermetallurgie zur Herstellung von Legierungen mit hoher Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit sowie anderen besonderen Eigenschaften verwendet werden. Die Reinheit und Partikelgröße unseres sphärischen Hf-Pulvers kann entsprechend den spezifischen Anforderungen der Kunden angepasst werden. Es kann als Kathode für Röntgenröhren verwendet werden und auch in Hf-W-Mo-Legierungen als Elektroden oder Hf-Ta-Legierungen als Widerstandsmaterialien eingesetzt werden.
Reinheit: 99,0%, 99,5%, 99,9%, 99,95% oder kundenspezifisch
Die Form: kugelförmig oder unregelmäßig
Partikelgröße: 0-10um, 0-45um, 10-60um, 45-150um
Prozess: Plasmasphäroidisierung, Verfahren mit rotierenden Plasmaelektroden (PREP)
Sphärisches Hafnium (Hf)-Pulver sollte in einem versiegelten Behälter an einem trockenen und kühlen Ort gelagert werden und sollte nicht über einen längeren Zeitraum der Luft ausgesetzt werden. Wir bieten vakuumversiegelte Verpackungen, einschließlich 100g/Beutel, 500g/Beutel, 1kg/Beutel und 25kg/Fass, oder wir können kundenspezifische Verpackungen je nach spezifischen Anforderungen anbieten.
Wir können auch Hafniumkarbid HfC, Hafniumnitrid HfN, Hafniumborid HfB, Hafniumdioxid HfO2 und Hafniumsilikon HfSi2 mit einer Reinheit von 99% bis 99,9% und einer Partikelgröße von 30-50nm bis 0-75um anbieten.
Wenn Sie spezielle Anforderungen an Reinheit und Partikelgröße haben, kontaktieren Sie uns einfach und wir werden versuchen, die Pulver für Sie anzupassen.