Pós de liga de alta entropia
Xangai Truer Industrial Development Co., Ltd
Pós de liga de alta entropia PREP:
Manufatura Aditiva | |||
Pós de liga de alta entropia |
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Notas | Composição Química, wt% | Graus de Tamanho de Partícula | |
FeCoNiCrMn | Fe Bal. | C 0,02máx. | 15-53μm 53-106μm 53-150μm |
Co 19,5-22,5 | P 0,015máx. | ||
Ni 19,5-22,5 | S 0,010máx. | ||
Cr 17,0-20,5 | O 0,10máx. | ||
Mn 18,0-21,5 | N 0,05máx. | ||
FeCoNiCrMo | Fe Bal. | C 0,02máx. | 15-53μm 53-106μm 53-150μm |
Co 17,0-20,0 | P 0,015máx. | ||
Ni 17,0-20,0 | S 0,010máx. | ||
Cr 15,0-17,0 | O 0,10máx. | ||
Mo 27,5-32,0 | N 0,05máx. | ||
FeCoNiCrAl | Fe Bal. | C 0,02máx. | 15-53μm 53-106μm 53-150μm |
Co 21,5-25,5 | P 0,015máx. | ||
Ni 21,5-25,0 | S 0,010máx. | ||
Cr 19,0-22,0 | O 0,10máx. | ||
Al 10,0-15,0 | N 0,05máx. | ||
FeCoNiCrTi | Fe Bal. | C 0,02máx. | 15-53μm 53-106μm 53-150μm |
Co 20,0-23,0 | P 0,015máx. | ||
Ni 20,0-23,0 | S 0,010máx. | ||
Cr 17,5-20,5 | O 0,10máx. | ||
Ti 16,0-19,0 | N 0,05máx. | ||
FeCoNiCr | Fe Bal. | C 0,02máx. | 15-53μm 53-106μm 53-150μm |
Co 24,5-28,0 | P 0,015máx. | ||
Ni 24,5-27,5 | S 0,010máx. | ||
Cr 21,5-24,5 | O 0,10máx. | ||
N 0,05máx. | |||
Personalizado: Al1.8CrCuFeNi2, Al1Mo0.5Nb1Ta0.5Ti1Zr1, NbMoTaWal, TiZrVTa, Al4TiVFeSc, etc |
Aplicações de Pós de Liga de Alta Entropia PREP
impressao 3D
Indústria Mecânica
Indústria Metalúrgica
Indústria Médica
sobre nós
Indústria Verdadeira
A Shanghai Truer Industrial Development Co., Ltd. foi fundada em 2009 e criou a empresa de manufatura aditiva em 2019, que se dedica a construir equipamentos e serviços integrados de fabricação de pó para impressão 3D, pós de impressão 3D de alta qualidade para ajudar nas aplicações de engenharia da manufatura aditiva.
A empresa não apenas fornece tecnologia e equipamentos profissionais de fusão seletiva de elétrons (SEBM), mas também tecnologia e equipamentos de fabricação de pó de processo de eletrodo giratório de plasma (PREP). Também temos vários tipos de pós metálicos esféricos, incluindo TiNi, TiTa, TiAl, TiNbZr, CoCrMo e assim por diante.
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