AM用Feni42軟磁性粉末を調達する際の3つの重要な要素

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簡単な回答

FeNi42 軟磁性粉末 これは、約42%のニッケルを含有し、残りを鉄とする球状の鉄ニッケル合金原料であり、有用な軟磁気特性を、従来の合金42(1.3917/Nilo 42)鍛造グレードを特徴づける、極めて低く制御された熱膨張率と兼ね備えています。 積層造形、粉末冶金、または金属射出成形用にこの粉末を調達する購入者は、以下の3つの重要な要素を評価する必要があります。 第一に、化学組成の純度、特に酸素含有量が0.05 wt%未満であること、およびニッケル含有量(41.5~42.5%)が厳密に管理されていることです。これは、格子間原子や組成の変動が透磁率および保磁力を直接低下させるためです。 第二に、プロセスに適した粒子径分布です。通常、レーザー粉末床溶融法では15~53ミクロン、EBMおよびDEDでは45~106ミクロンが適しています;そして第三に、熱処理後の磁気性能に関する文書化されたデータです。最終的な透磁率と保磁力は、乾燥水素または真空中での高温焼鈍後に初めて発現するからです。 飽和磁束密度は約1.4~1.5 T、 キュリー温度は約420℃、20~300℃における熱膨張係数はおよそ4.5~5.0×10⁻⁶/Kであり、これがFeNi42がガラス・メタルシールや気密パッケージング用途で主流となっている理由です。 新しいサプライヤーを認定する前には、必ず化学組成、酸素含有量、粒度分布(PSD)、流量、真球度を記載した分析証明書を要求してください。.

FeNi42軟磁性粉末とは何か、およびその材料としての利点

FeNi42 軟磁性粉末 これは、軟磁性および膨張制御合金である鉄ニッケル系合金に属しており、このグループにはFeNi50や、78-80%ニッケル付近の高透磁率パーマロイグレードも含まれます。 この名称の「42」は、ニッケルの名目含有量が重量比42パーセントであることを示しており、残りの大部分は鉄で構成されています。鍛造品として、この組成は国際的にAlloy 42、UNS K94100、 DIN 1.3917として国際的に標準化されており、Nilo 42などの商品名でも知られています。また、数十年にわたり、ガラス・メタル・シール、セラミックパッケージ用リードフレーム、半導体用気密筐体の標準材料として用いられてきました。.

より広い範囲において、 軟磁性粉末 積層造形や粉末冶金に利用できるFeNi42は、独特の中間的な位置を占めています。FeNi50やパーマロイなど、ニッケル含有量の高い合金は、最大透磁率が高く、保磁力が低いという特徴がありますが、ニッケル含有量が増えるにつれて熱膨張率が上昇し、飽和磁束密度は低下します。 FeNi42は、磁気性能を若干犠牲にする代わりに、2つの決定的な利点を持っています。それは、約1.4~1.5 Tの飽和磁束密度( これは高ニッケルパーマロイのそれを上回るものであり、さらに約400℃までアルミナセラミックスやシールガラスとほぼ一致する、ほぼ一定で低い熱膨張係数である。.

FeNi42粉末の需要を牽引する主な材料上の利点には、以下のものが挙げられます。

  • 低熱膨張性を制御: 20~300℃の範囲で、およそ4.5~5.0 × 10⁻⁶/Kであり、ガラスやセラミックを用いた寸法安定性の高いアセンブリを実現します。.
  • 良好な軟磁気応答: 適切な焼鈍処理を施すと、初期透磁率は数千のオーダーとなり、保磁力は20 A/m未満となるため、低周波用コア、シールド、およびセンサー部品に適している。.
  • 同クラスとしては高い飽和磁束密度: 約1.4~1.5 Tで、80%ニッケル・パーマロイの約2倍である。.
  • 中程度の電気抵抗率: 約0.70 uOhm*mであり、純鉄よりも高いため、交流用途における渦電流損失の低減に寄与する。.
  • 優れた加工性: 単相オーステナイト(fcc)構造は延性があり、硬化せず、溶接や焼結もきれいに進行する。.

粉末状であることで、これらの特性は、鍛造加工では実現できない用途への応用を可能にします。具体的には、形状が複雑な磁気コア、一体型のシールド構造、プリントされた気密パッケージ部品、および 金属射出成形(MIM) 生産量において。.

FeNi30合金粉末
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化学組成データと性能要素との相関関係

FeNi42の性能は、他のほとんどすべての市販合金よりもニッケル含有量の変動に敏感に左右されます。これは、Fe-Ni系の磁気転移挙動と熱膨張の最小値が、いずれもこの組成付近に位置しているためです。 ニッケル含有量がわずか1パーセント変動するだけで、キュリー点、熱膨張曲線、および透磁率が変化するため、信頼できる粉末サプライヤーは、ニッケル含有量を公称値の±0.5パーセント以内に厳密に管理している。.

FeNi42の化学組成

エレメントミン (%)マックス (%)役割
ニッケル(Ni)41.542.5fcc構造、キュリー点、透磁率、および熱膨張係数を定義する
鉄(Fe)バランスバランス強磁性体ベース;飽和磁束密度を提供する
マンガン (Mn)0.50溶融工程における脱酸素剤;熱間加工性を向上させる
ケイ素 (Si)0.30脱酸剤;電気抵抗率をわずかに高める
カーボン(C)0.05不純物;透磁率を低下させ、保磁力を増加させる
リン (P)0.025不純物;粒界を脆化させる
硫黄 (S)0.025不純物;ドメイン壁を固定する介在物を形成する
酸素(O、粉末)0.05粉末は間隙充填型。磁気的な柔らかさを保つためには、含有量を低く抑える必要がある。

ニッケル が支配的な要素である。42%では、この合金はFe-Ni系における熱膨張が最小となる組成(36% Ni付近のインバー領域)のすぐ下に位置しつつ、キュリー温度が約420℃という完全な強磁性を維持している。 ニッケル含有量を増やすと、合金はパーマロイ領域へと移行し、透磁率は高くなるが飽和磁束密度は低下する。一方、ニッケル含有量を減らすと飽和磁束密度は上昇するが、密閉パッケージにおいてこの合金の価値を高める「熱膨張の一致性」が損なわれてしまう。.

強磁性マトリックスを供給する。原子あたりの磁気モーメントが高いため、FeNi42は1.4~1.5 T付近で飽和し、これは80%ニッケルパーマロイの典型的な値である0.75~0.8 Tを大幅に上回っている。 粉末を購入する際は、分析証明書に記載されている鉄とニッケルの比率が、最初に確認すべき数値となります。.

炭素、硫黄、リン これらは、軟磁性合金における磁気毒物です。炭素の格子間原子や硫化物・リン化物の介在物は、磁区境を固定し、保磁力を直接上昇させ、ヒステリシス損失を増大させます。粉末製造において、格子間原子に関する主な懸念事項は 酸素: すべての粒子には、アトマイズ処理による表面酸化層が付着しており、総酸素含有量がおよそ0.05 wt%を超えると、焼結または成形後に透磁率が測定可能なレベルで低下します。このため、高純度アルゴンを用いた不活性ガスアトマイズ処理を行い、その後、密閉状態での取り扱いと包装を行うことが、このグレードにおける一般的な製造基準となっています。.

マンガンとケイ素は、溶融脱酸工程により微量の残留物として含まれていますが、規格範囲内であれば無害です。ケイ素は、電気抵抗率をわずかに向上させるという有益な効果さえもたらします。購入者は、分析証明書を単なる形式的な書類ではなく、性能を証明する文書として扱うべきです。軟磁性合金において、化学組成こそが性能そのものだからです。.

物理的・機械的特性の概要およびデータまとめ

FeNi42は、その強度と同様に物理定数についても規定されているため、完全なデータシートには、磁気的特性、熱的特性、および機械的特性をまとめて記載する必要があります。以下の数値は、磁気用途に関連する状態である焼鈍状態の合金を反映したものです。.

主要物件

プロパティ価値単位
密度8.11g/cm3
融点1430-1450
キュリー温度~420
飽和磁束密度(Bs)1.4-1.5T
強制力(焼きなまし処理済み)< 20A/m
初期透水係数2000-5000
電気抵抗率0.70uOhm*m
CTE(20~300℃)4.5-5.0×10⁻⁶/K
熱伝導率15-17W/m・K
弾性係数145GPa
引張強度(焼きなまし)570-620MPa
降伏強度(焼なまし)280-320MPa
伸び30%
硬度(焼なまし)150-160HV

について 熱膨張挙動 これがこの合金の特徴的な特性です。室温から約300℃の範囲では、平均膨張係数は4.7×10⁻⁶/K付近に安定しており、シーリングガラスやアルミナセラミックスとほぼ同等の値を示します。 変曲点温度を超えると係数が急激に上昇するため、設計技術者は、密閉アセンブリの適合性を評価する際、室温での単一の数値だけでなく、常に膨張曲線全体を考慮する必要があります。.

について 磁気特性 正しい解釈が必要です。FeNi42は確かに軟磁性ですが、透磁率の記録を更新する合金というわけではありません。 焼鈍後の初期透磁率は2000~5000、保磁力は20 A/m未満が典型的であり、これらはシールド、低周波用コア、センサーヨークに適した立派な値ではあるが、スーパーモロイの10万以上の透磁率にははるかに及ばない。 その利点は、この組み合わせにある。高透磁率合金ではFeNi42ほどの膨張制御性能は得られず、低膨張合金(インバー、コバー)では実用的な磁束密度においてFeNi42ほどの軟磁性を実現できない。 また、1.5 T付近の飽和磁束密度も、あらゆるニッケルリッチ・パーマロイを上回っており、極限透磁率よりも誘導レベルが重視される場合には、FeNi42の方が優れた選択肢となります。.

機械的に, 、この焼鈍済み合金は、fcc構造では融点以下で相変態が起こらないため、軟らかく、延性があり、熱処理による硬化は生じません。強度は冷間加工によってのみ得られますが、その一方で冷間加工は磁気軟性を損なうため、完成した磁性部品は常に完全焼鈍状態で使用されます。 積層造形部品の場合、これは後処理としての焼鈍が、残留応力の除去と最終的な磁気性能の発現という二重の役割を果たすことを意味する。また、密度が8.11 g/cm³であることも、積層造形の見積もりにおいて質量と粉末ベッドの体積を換算する粉末購入者にとって重要な要素となる。.

利用可能なグレード、粒子径分布および許容基準

市販のFeNi42粉末は、主要な固結プロセスに合わせて、いくつかの粒子径区分で供給されており、それぞれについて、粒度分布幅、形態、および格子間元素含有量について所定の許容範囲が定められています。.

利用可能な仕様

パラメータ標準/値
LPBF/SLM用PSD15~53 um(D10 約20、D50 約33、D90 約52)
EBM/DED用PSD45~106 μm
MIM用PSD0~25 µm または 0~38 µm(微細カット)
プレス・焼結法用PSD45~150 µm
球形度>= 92%(ガスアトマイズ式)
ホールの流量<= 20 秒/50 g
見かけ密度>= 4.3 g/cm³
タップ密度>= 5.0 g/cm³
酸素含有量<= 0.05 wt%(プレミアムグレードは <= 0.03 wt%)
化学Ni 41.5-42.5%、ASTM F30 / DIN 1.3917 準拠
パッケージング真空密封またはアルゴン充填された、防湿ドラム缶

について 選択的レーザー溶融(SLM) 各プラットフォームにおいて、15~53ミクロンの粒度分布が標準となっており、流動性を維持するため、15ミクロン未満の微粉分については10%以下に抑えられています。 FeNi42は、同じ粒度分布のアルミニウム粉末よりも流動性が高いため(密度が高いため層の広がりが良くなる)、一部のLPBFユーザーは、複雑な形状の磁気コアの表面仕上げを向上させるために、10~45ミクロンまでやや細かい粒度分布を採用しています。.

について 電子ビーム溶融(EBM) また、指向性エネルギー堆積法においては、粒径が粗い45~106ミクロンの粉体を使用することで、高い予熱温度下でも安定した流動性が確保され、電子ビーム環境下での粉末の充填が抑制されます。EBMプロセスの真空雰囲気は、積層中のさらなる酸化を抑制するため、このグレードの材料にとっては実際に有利です。.

MIMおよびプレス・焼結法 各グレードでは、それぞれ最も微細な粒度と最も粗い粒度が使用されており、ここでは酸素含有量の仕様が品質を左右する主要な要因となります。焼結磁性部品は、粉末がほぼ完全な密度まで焼結され、その後の水素焼鈍によって表面の酸化物が除去されて初めて、最終的な物性を発揮するのです。.

バッチ認証には、ISO 13320に準拠したレーザー回折法による粒度分布(PSD)、ICP-OESまたはXRFによるニッケルおよび不純物の化学分析、不活性ガス溶融法による酸素・窒素の測定、ASTM B213に準拠したホールフロー測定、およびSEMによる形態画像の取得を含める必要があります。 ばら粉末では磁気性能を測定できないため、重要な用途向けの認定ロットには、多くの場合、焼結または成形された試験棒が含まれており、標準的な焼鈍処理後に透磁率および保磁力が測定されます。これは、信頼できるサプライヤーであれば必ず依頼すべき慣行です。.

製造工程:溶融噴霧および分級工程

FeNi42軟磁性粉末は、標準的な工業プロセスとして不活性ガスアトマイズ法によって製造され、高品質な粗粒分についてはPREPなどの遠心分離プロセスが利用可能です。このプロセスチェーンは、最終粉末に酸素や磁性不純物が混入しないようにするという、最優先の目標に基づいて設計されています。.

ガスアトマイズ法(GA) まず、電解鉄と高純度ニッケル(通常は99.9%+のカソードニッケル)を、厳格な投入管理の下で真空誘導溶解から開始する。これは、ニッケル含有量を0.5%の許容範囲内に収め、かつるつぼからの炭素の混入を抑制する必要があるためである。 溶融物は過熱された後、セラミックノズルから注がれ、高純度アルゴンのジェットによって微細化される。軟磁性グレードの場合、窒素よりもアルゴンが強く推奨される。窒素はFe-Ni溶融物に溶解して窒化物を形成し、ドメイン壁を固定してしまう可能性があるのに対し、アルゴンは完全に不活性であるためである。 液滴は噴霧塔内で球状化・凝固し、密閉系により酸素の取り込みを最小限に抑えることで、順調に稼働している生産工程では、通常、総酸素含有量を0.02~0.04 wt%に達成している。.

プラズマ回転電極法(PREP) 最も粗粒で最高品質の分級分に対する代替手段を提供します。鍛造されたFeNi42電極棒が高速で回転する一方で、プラズマトーチがその先端を溶融させます。遠心力によって飛沫が放出され、これらが固化して、サテライトが事実上なく、セラミックノズルとの接触もない、ほぼ完全な球形の粒子となります。 PREP粉末は高価格帯に位置し、より粗い粒径(通常45ミクロン以上)から始まるため、微細なLPBF用材料というよりは、EBM、DED、および熱等方圧プレス(HIP)の原料として適しています。.

噴霧化後、粉末は管理された分級工程を経ます:

  1. 選別および空気分級: 微粉化された粒子は、不活性ガス雰囲気下で多段式ふるい分けおよびサイクロン分級機を用いて、市販の粒度範囲(0~25、15~53、45~106、45~150ミクロン)に分類される。.
  2. 混合と均質化: 分類済みのロットは、キャンペーン全体を通じて化学組成と粒度分布(PSD)を均一化するためにブレンドされます。.
  3. 品質サンプリング: 各ロットは、出荷前に化学成分、酸素濃度、PSD、流量、および形態についてサンプリング検査が行われます。.
  4. パッケージング: 粉末は、表面の水分が酸化を促進し、流動性を低下させるため、乾燥剤を入れた防湿容器に真空密封するか、アルゴンガスを充填して密封されます。.

ある工程は、粉末メーカーではなく部品メーカー側で行われるため、購入担当者はその点を考慮して計画を立てる必要があります。それは、 最終焼鈍. 部品が3Dプリント、成形、あるいはプレス加工のいずれで製造されたものであっても、完全な磁気軟化を実現するには、乾燥水素または高真空下で900~1100℃の焼鈍を行い、その後、秩序化温度範囲を通じて制御冷却を行う必要があります。この工程を熟知している粉末サプライヤーであれば、焼鈍を効果的に行うための酸素含有量の上限や粒子清浄度について助言を提供できます。.

業界別用途:医療、航空宇宙、発電

FeNi42粉末は、磁気機能と熱膨張係数の適合という2つの要件が交差する分野での用途に用いられており、この組み合わせを実現できる競合する合金群は他に存在しません。需要は主に電子機器のパッケージング、センサー、電磁部品に集中しており、各分野においてアディティブ・マニュファクチャリングによって新たな形状の可能性が広がっています。代表的な用途は以下およびサプライヤーの アプリケーション ページを参照されたい。

業界別の代表的な用途

産業代表的な部品FeNi42粉末を選ぶ理由
エレクトロニクス包装ハーメチックパッケージのベース、リードフレーム、シールリングCTEとガラス/セラミックの適合性
航空宇宙センサーハウジング、航空電子機器のシールド、密閉型コネクタ拡張時の安定性とシールド効果
メディカル埋め込み型デバイスの筐体、イメージングセンサーの構成部品気密シール、生体適合性ニッケル合金ファミリー
発電リレーコア、ソレノイドヨーク、計器用変圧器部品B値 約1.5 T、ヒステリシス損失が小さい
自動車用電子機器センサーコア、アクチュエータアーマチュア、EMIシールドMIM/AMによるネットシェイプの複雑性
科学機器クライオスタット用フィードスルー、真空チャンバー用シール温度サイクルにわたって低い熱膨張係数(CTE)

電子機器および半導体のパッケージング この合金の歴史的な中心地です。ガラス・メタル接合およびセラミック・メタル接合では、FeNi42の熱膨張曲線が、封止および冷却サイクルを通じて封止用ガラスの熱膨張曲線に追従することを利用しており、これにより、発振器、センサー、および光電子デバイス用の気密筐体における応力亀裂を防止しています。 現在、粉末成形法ではMIM(金属粉末成形)を用いてネットシェイプのシールリングやパッケージベースを製造しており、小型で大量生産される部品の機械加工によるロスを削減している。一方、バインダージェット法やLPBF(低圧粉末焼結法)は、試作段階のパッケージ形状の製造に活用されている。.

航空宇宙・防衛 これらの用途では、2つの特性を併せ持つ材料が活用されています。すなわち、航空電子機器の筐体やコネクタシェルは、寸法変化を起こさずに広い温度範囲に耐えなければならない一方で、同じ材料が、高感度な計測機器に対する磁気シールドとしても機能するのです。 形状にぴったりと沿った、重量が最適化された形状を持つ積層造形によるシールド構造は、現在活発に開発が進められている分野である。これは、積層造形により、シールド壁を保護対象の電子機器の形状に合わせることができ、箱型の形状に縛られることがないためである。.

医療機器 気密フィードスルーや密閉型センサーハウジングが埋め込み型電子部品と接触する箇所には、FeNi42を使用します。この合金の熱膨張安定性により、滅菌サイクルを経てもセラミック絶縁シールの完全性が維持されます。また、粉末冶金法を用いることで、小型で複雑な筐体部品を経済的に大量生産することが可能です。.

発電、リレー、および産業用電子機器 磁気特性を重視する場合:飽和磁束密度が約1.5 Tで、焼鈍後のヒステリシス損失が低いFeNi42は、磁束密度が重要であり、かつ動作周波数が十分に低いため、その中程度の抵抗率が許容されるリレーコア、ソレノイドヨーク、および計器用変圧器の部品などに用いられます。 極面が成形され、磁束経路が一体化した成形コアは、特殊な少量生産用途において、積層アセンブリに取って代わりつつあります。.

自動車用電子機器およびセンサー 需要の全体像を補完するのは、とりわけMIM(金属射出成形)による生産であり、これによって年間数百万個もの小型軟磁性センサーコアやアクチュエータのアーマチュアが製造されています。電動化が進むにつれ、1台あたりの位置センサー、電流センサー、速度センサーの数が増加しており、このセグメントは拡大を続けています。.

これらの業界において、材料選定の考え方は一貫しています。つまり、部品が温度変化にわたりガラスやセラミックに対して寸法精度を維持しつつ、同時に磁束を伝導または遮蔽する必要がある場合、エンジニアはFeNi42を採用します。また、粉末冶金や粉末成形技術を用いる方が、鍛造棒材を機械加工するよりも経済的に所定の形状を実現できるからです。.

他のグレードとの比較および代替合金システムの選択肢

軟磁性合金の選定は、常に飽和磁束密度、透磁率、抵抗率、コスト、そしてFeNi42の場合は熱膨張率といった要素間のトレードオフとなります。以下の表では、FeNi42と、購入者が最も頻繁に比較検討する他のグレードとの比較を示しています。.

FeNi42 とその他の軟磁性合金の比較

プロパティFeNi42FeNi50FeNi80(パーマロイ)FeCo50FeSi (6.5%)
飽和磁束密度(T)1.4-1.51.5-1.60.75-0.82.3-2.41.8
初期透水係数2000-50004000-1000050000-100000+1000-30002000-6000
強制力(A/m)< 20< 10< 240-80< 20
電気抵抗率(μΩ・m)0.700.500.550.250.80
CTE 20~300℃ (×10⁻⁶/K)4.5-5.08-912-1310-1111-12
キュリー温度(℃)~420~500~450~980~700
ガラス・セラミックの封止素晴らしいいいえいいえいいえいいえ
相対的な材料費ミディアムミディアム高い非常に高い低い

FeNi50 これは最も近い類似材料であり、保磁力こそ低いものの、飽和度と透磁率がわずかに高く、しかし熱膨張係数がおよそ2倍になるため、シール用途には適しません。純粋に磁気的な設計の場合、熱膨張の制約がないシールド缶やリレーコアにおいては、FeNi50の方がコストパフォーマンスに優れた磁気特性を持つことがよくあります。.

FeNi80 パーマロイ 高感度シールドや高精度変流器など、究極の透磁率と最小の保磁力が決定的な要素となる分野で優位に立っています。0.8 T未満で飽和するため、低誘導用途に限定され、膨張性も普通であることから、FeNi42と競合するのはシールド用途に限られ、それも誘導レベルが低い場合のみです。.

FeCo50 2.3~2.4 Tという飽和磁束密度において最高値を誇る合金であり、航空機用発電機や高性能モーターに使用されています。これらの用途では、重量やサイズを考慮すれば、コバルトの極めて高いコストや加工時の脆性といった欠点も許容されます。ガラスとの接合は不可能であり、FeNi42に比べて1キログラムあたりのコストが数倍高くなります。.

FeSi合金, 、ケイ素鋼粉などには、積層型交流コアとして低コストかつ高抵抗率という利点があるが、透磁率はそれほど高くなく、粉末状では脆く、熱膨張の整合性が全くない。.

選定のロジックは、いくつかのルールに集約されます。部品がガラスやセラミックと密着する必要がある場合、FeNi42が実質的に唯一の軟磁性材料の選択肢となります。 部品が純粋に磁気用途である場合は、誘導レベルと周波数に基づいて選択します。最大磁束を求める場合はFeCo50、最大透磁率を求める場合はFeNi50またはパーマロイ、安価な交流コアにはFeSi、そして適度な磁気性能と熱膨張に対する安定性が求められる場合はFeNi42を選択します。.

当社

上海Truer Technology Co., Ltd 中国を拠点とする積層造形サプライヤーであり、PREP粉末製造装置と高品質な球状金属粉末を統合しています。2009年に設立された同社は、以下の両方を提供しており、 ガスアトマイズ法(GA) また、ニッケル合金、チタン合金、アルミニウム合金、ステンレス鋼、コバルト合金、銅合金、高エントロピー合金、および特殊材料にわたるPREP製造能力を有しています。.

軟磁性材料の分野において、Truer社は、FeNi42、FeNi50、FeCo50、パーマロイ、および関連する組成の球状粉末を供給しており、その粒子径分布は、LPBF、EBM、DED、MIM、ならびにプレス・焼結プロセスに合わせて調整されています。 軟磁性グレードは、酸素濃度を管理した高純度アルゴン雰囲気下でアトマイズされ、すべてのロットには、化学組成、酸素および格子間元素含有量、粒度分布(PSD)、流動性、見掛け密度、およびご要望に応じてSEM形態に関する分析証明書が同梱されます。.

標準グレードに加え、同社は航空宇宙、医療機器、電子機器パッケージング、石油・ガス、自動車などの業界向けに、カスタム合金の開発、小ロットの試作、および量産サービスを提供しています。また、主要な研究機関と共同で運営する金属3Dプリンティングの共同イノベーションセンターでは、3Dプリントによる磁性部品の開発や、生産向けの新粉末グレードの認定を行う顧客を支援しています。.

FeNi42軟磁性粉末の仕様、サンプルのご依頼、またはニッケル含有量の範囲に関するお問い合わせは、, チームにお問い合わせください 対象となるPSD、酸素限界、および年間生産量の推定値を明記してください。.

よくある質問

Q1:FeNi42軟磁性粉末の一般的な粒子径分布はどのようなものですか? A: LPBF用の標準粒度範囲は15~53ミクロンであり、EBMおよびDED用には45~106ミクロンのものが供給されています。 MIM用には0~25または0~38ミクロンの微細粒度が用意されており、プレス焼結用途には45~150ミクロンの粗粒度製品が使用されます。.

Q2:FeNi42粉末は、SLMシステムとEBMシステムの両方で使用できますか? A: はい、PSDがプラットフォームに適合している限り可能です。SLM/LPBFの場合は15~53ミクロン、EBMの場合は45~106ミクロンです。EBMの真空雰囲気は、造形中の酸化を抑制するため、このグレードには実際に有益です。ただし、どちらのプロセスで製造された部品も、完全な磁気特性を発揮させるためには最終焼鈍処理が必要です。.

Q3:FeNi42粉末にはどのような認証が付いていますか? A: 標準納入品には、ASTM F30/DIN 1.3917に準拠したニッケルおよび不純物の化学成分分析証明書、不活性ガス融解法による酸素・窒素含有量、レーザー回折法による粒度分布(PSD)、ホール法による流量、および見かけ密度が含まれます。規制対象の用途については、SEM形態分析報告書および認定試験用バーのデータもご用意しています。.

Q4:FeNi42粉末の注文における最小発注数量(MOQ)はどれくらいですか? A: プロセス開発や磁気特性評価用のサンプルは、通常5~10 kgの数量で用意可能です。量産注文は一般的に25~50 kgからとなり、100 kg以上の数量ではよりお得な価格設定となります。.

Q5:FeNi42粉末の組成はカスタマイズ可能ですか? A: はい。Fe-Ni系においてニッケルの含有範囲を狭めたり、調整したりすることが可能であり、FeNi46やFeNi50などの関連グレードも、同じ噴霧溶融プラットフォーム上で製造できます。カスタム組成の場合、最低生産数量が設定されており、開発サイクルも短期間で済みます。.

Q6:FeNi42粉末の注文における一般的なリードタイムはどのくらいですか? A: 標準的なカットは、通常、在庫あり、または1~2週間以内に手配可能です。特注の組成、PREPで製造された粗分画、あるいは大規模なキャンペーン向けの大量注文については、溶解および噴霧のスケジュールにもよりますが、通常3~6週間かかります。.

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