Otros polvos metálicos

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Otros polvos metálicos:

Además, existen muchos otros métodos para producir los polvos metálicos de alta calidad requeridos para diferentes aplicaciones, como atomización con agua, atomización centrífuga, trituración mecánica, método de reducción química, método electrolítico, descomposición de carbonilo, esferoidización por plasma RF, etc.
Para diferentes aplicaciones, se requiere que los polvos metálicos producidos tengan diferentes características químicas y físicas.

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Polvos metálicos producidos por otros métodos
Otros polvos metálicos
Los gradosComposición química, wt%Grados de tamaño de partículas
WC01 W bal.Ctotal 3.8-4.215-53 μm
45-106 μm
45-150 μm
Cr 0,1 máx.C libre 0.1max
Fe 0,5 máx.O 0,05 máx.
WC050 W bal.Ctotal 6.13-6.184,6-5,4 μm
O 0,05 máx.C libre 0,05 máx.
WC-CoWC Bal.O 0,1 máx.0-25 μm
15-38 μm
15-45 μm
15-63 μm
Co 16.0-18.0Fe 0,5 máx.
Ctotal 4.8-5.6Todas las demás impurezas metálicas 1,5 máx.
C libre 0.1max
WC-Co-CrWC Bal.O 0,1 máx.0-30 μm
15-38 μm
15-45 μm
15-53 μm
Co 9.0-11.0Fe 0,5 máx.
Cr 3.5-4.5Todas las demás impurezas metálicas 1,5 máx.
Ctotal 5.0-5.8
C libre 0.12max
WC10%-Ni60AAC 1.0-1.5Si 4.0-5.015-45 μm
15-53 μm
45-106 μm
Cr 17.0-20.0W 8.0-12.0
B 2,0-3,0Ni Bal.
Fe 5.0 máx. 
WC-Ni50Ni Bal.Fe 1,0 máx.15-53 μm
53-106 μm
53-150 μm
Cr 0,1 máx.B 1,0 máx.
C 1.9-2.4Cu 9.0-11.0
O 0,08 máx.W 47.5-48.5
Si 1,5 máx. 
Cr puroCr 99.9minAl 0,01 máx.15-53 μm
53-106 μm
53-150 μm
Fe 0,02 máx.Otros 0,06 máx.
Si 0,01 máx. 
Co puroCo 99.0min 15-53 μm
53-106 μm
53-150 μm
Mo purolun 99.9min 15-53 μm
53-106 μm
53-150 μm
DAP100.29D2Fe Bal.Mo 0.50-0.700-180 μm
C 0.015 máx.cobre 1,60-1,90
Si 0,05 máx.P 0,015 máx.
Manganeso 0,15 máx.S 0,015 máx.
Ni 3,80-4,20Pérdida de hidrógeno 0.15max
LAP100.29DNi4Fe Bal.Ni 3,65-4,350-180 μm
C 0,01 máx.P 0,015 máx.
Si 0,20 máx.S 0,015 máx.
Manganeso 0,15 máx.Pérdida de hidrógeno 0.15max
LAP100.29Fe Bal.P 0,015 máx.0-180 μm
C 0,01 máx.S 0,015 máx.
Si 0,04 máx.Pérdida de hidrógeno 0.20max
Manganeso 0,14 máx.
Y2O3 TREO 99.0min 45-106 μm
Y2O3/TREO 99,9 min
Pérdida por ignición de 1000℃x1hr: 1.0max
Polvo de plata de aluminio recubierto de SiO2Contenido sólido 99.0%minD50 = 11/18/25/32/45/50 μm
Polvo de aluminio en escamasCubierta de agua 15000-40000cm2/g ±10%D50 = 3-5/7-9/15-17/25-32/65-75μm
JCF1FE 98.0minN 0,80 máx.D50=4,5-7,0/3,5-4,5/≤3,5 μm
C 0,80 máx.O 0,4 máx.
JCF2FE 99.5minN 0,01 máx.D50=2,0-4,5/4,5-7,0/7,0-10,0 μm
C 0,05 máx.O 0,3 máx.
ITS-Cr200Cr 99.0minAl 0,10 máx.0-75 μm
O 0,20 máx.Si 0,15 máx.
Fe 0,50 máx.N 0,05 máx.
S 0,015 máx.Cu 0,05 máx.
STI-FTD-3Cu 99.7minFe 0,01 máx.+75μm: ≤5
-75 μm/+45 μm: 10-30
-45μm: Bal.
O 0,15 máx.H2O 0,04 máx.
Pb 0,04 máx.Insoluble en HNO3 0,05 máx.
ITS-Mo-1lun 99.5minMg 0,003 máx.D50 ≤5 μm
Pb 0,001 máx.Ca 0,007 máx.
Bi 0,001 máx.P 0,005 máx.
Sn 0,005 máx.O 0,20 máx.
Al 0,005 máx. 
STI-FNiT24Ni 99.8minS 0,0015 máx.D50 3,0-6,0 μm
O 0,15 máx.Co 0,001 máx.
C 0,15 máx.Fe 0,0015 máx.
polvo de zincSn 99.9minPb 0,04 máx.0-45 μm
0-75 μm
0-150 μm
Fe 0,015 máx. 
Hermano-S10Cu90Sn10 +150μm: ≤5
-150 μm/+45 μm: Bal.
-45μm: 20-30
Hermano-S20Cu80Sn20 +75μm: ≤5
-75 μm/+45 μm: 5-20
-45μm: Bal.
Ni-GB0081RNi 99.0minD50 =0.07-0.08μm
Personalizado: WC-WB-CoNiCr, WC-Ni-Cr, WC-Co-Cr-Ni, WC-Ni35, WC-Ni12, etc.

Aplicaciones

la fabricación aditiva pondrá en peligro su empresa impresión 3D 1

Impresión 3d

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Shanghai Truer Industrial Development Co., Ltd.se estableció en 2009 y creó el negocio de fabricación aditiva en 2019, que se dedica a construir equipos y servicios de fabricación de polvos de impresión 3D integrados, polvos de impresión 3D de alta calidad para ayudar a las aplicaciones de ingeniería de la fabricación aditiva.

La compañía no solo proporciona tecnología y equipos profesionales de fusión selectiva por haz de electrones (SEBM), sino también tecnología y equipos de fabricación de polvo para procesos de electrodo rotatorio de plasma (PREP). También tenemos varios grados de polvos metálicos esféricos, incluidos TiNi, TiTa, TiAl, TiNbZr, CoCrMo, etc.

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